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中国电子工程设计院有限公司(简称“中国电子院”)发文，针对近期传出的“清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并已在雄安新区落地”消息，指出该项目并非国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)。

10月5日至11月6日，北京正负电子对撞机重大改造工程(BEPCII)完成了本年度第二次同步辐射专用光模式运行，共为用户提供有效机时713.48小时。

2016年，在北京市发展改革委和中国科学院联合支持下，作为怀柔科学城首批高水平交叉研究平台之一，先进光源技术研发与测试平台启动建设，研发环境与条件进一步改善。长期以来，高能所一直与国内顶尖团队密切合作，发挥建制化优势，全面、系统、持续地开展X射线光学、探测等核心技术研发，取得了一项又一项重要成果。

他希望在今后的工作中，要认真总结BSRF近年来运行开放的经验，交流用户研究的成果，不仅要提高成果产出，更重要的是积极面对国家发展需求，主动为国家解决遇到的瓶颈问题，实现高水平科技自立自强。高能所副所长、高能同步辐射光源(HEPS)常务副指挥董宇辉研究员和内蒙古大学人才办主任谷晓俊教授也分别致词，对大家的到来表示热烈的欢迎。